[实用新型]晶圆夹具以及晶圆湿法腐蚀设备有效
申请号: | 202320163627.3 | 申请日: | 2023-02-08 |
公开(公告)号: | CN219144158U | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 秦华;王懋;刘路 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/306 |
代理公司: | 苏州三英知识产权代理有限公司 32412 | 代理人: | 仲崇明 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种晶圆夹具以及晶圆湿法腐蚀设备,所述晶圆夹具包括:第一夹持件;第二夹持件,其上具有腐蚀孔,所述第二夹持件与所述第一夹持件相连接用以夹紧晶圆;第一密封圈,安装于所述第一夹持件上;其中,晶圆夹持于所述第一夹持件和第二夹持件之间时,所述第一密封圈、第一夹持件以及晶圆的保护面共同围成一密闭空间。本实用新型实施方式的晶圆夹具进行的湿法腐蚀工艺具有效率更高,晶圆的报废率低的优点。 | ||
搜索关键词: | 夹具 以及 湿法 腐蚀 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202320163627.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种墙面腻子粉刮涂装置
- 下一篇:一种局部通风机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造