[实用新型]一种用于压电薄膜原位极化工艺的双栅极极化设备有效

专利信息
申请号: 202321044864.4 申请日: 2023-05-05
公开(公告)号: CN219146074U 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 潘思怡;史航宇;邢天宇;陈昭如;胡潇然;钟乐黎;王硕;张祖祺 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H10N30/045 分类号: H10N30/045
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 邓黎
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种用于压电薄膜原位极化工艺的双栅极极化设备,属于压电材料极化技术领域。该极化设备包括支撑结构、金属旋转基板、待极化件、上源极、上栅极、下源极、下栅极。本实用新型在待极化件的上下两侧设置双栅极结构,能够产生更大的极化电场,使压电薄膜中的电畴更快完成取向排列,提升了极化速度,减少了极化处理的时间;上源极和下源极采用圆形实心金属板,上栅极和下栅极采用设置有均匀网格结构的金属圆盘,增加了放电位置的数量,提高了等离子体的产生效率,进一步减少了极化时间;此外,通过设置金属旋转基板,保证了压电薄膜极化的均匀性。
搜索关键词: 一种 用于 压电 薄膜 原位 极化 工艺 栅极 设备
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