[发明专利]复合磁控溅射靶及其镀膜方法无效
| 申请号： | 85105634.2 | 申请日： | 1985-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN1004495B | 公开（公告）日： | 1989-06-14 |
| 发明（设计）人： | 范玉殿 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 张善余 |
| 地址： | 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种磁控溅射靶装置，由至少两个可调场强的电磁单元拼装而成，这些单元共用一个阴极靶板和溅射电源，各个单元的靶面场强可以通过各自的电磁铁分别加以调节，从而实现各单元的功率分别调节，各个单元可以单独使用或同时使用，当各个单元分别采用异种材料的靶材时，该溅射装置可以实现镀制各种金属材料(包括铁磁材料)的合金膜，并实现合金膜成份的连续调节。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 磁控溅射 及其 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置，其特征在于该装置具有两个或多个电磁单元，每个电磁单元各配置一个具有独立的励磁电源和磁极对(即N极和S极)的电磁铁，以产生各自的跑道磁场，全部电磁单元的靶板相互邻接(导电)构成一个阴极靶板，并共用同一个溅射电源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学，未经清华大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/85105634.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：带有防转传动件的手提式冲击钻
- 下一篇：涡流燃烧室镶块
- 同类专利
- 专利分类
