[其他]高反差正性光致抗蚀剂显影的方法

摘要

正性光致抗蚀剂碱性溶液两步显影方法提供使光致抗蚀剂产生高反差。所公开的显影液包括氢氧化钾、碳氮化合物或羧化物表面活性剂那样的碱基溶液。在光致抗蚀剂的反差上碳氮化合物或羧化物的表面活性剂的加入可产生意想不到的增加，在对已曝光的抗蚀剂膜的有效显影中双浸方法可加以使用，在浴的使用期中光致抗蚀剂的反差和感光度将基本保持不变。高反差光致抗蚀剂提供线宽控制，并且进一步改进光致抗蚀剂图形加工的一致性。

主权项

1、一种对正性辐照敏感的包括有苯醌二叠氮基磺酸衍生物和碱可溶性树脂组成的抗蚀剂膜，这种抗蚀剂膜巳涂布在衬底上，并经辐照曝光后，为形成一表面凹凸图形的显影法，该显影法包括：(a)使曝光抗蚀剂膜同含有以显影液的重量计0.001%～1.0%的表面活性剂的含水碱性预处理溶液接触，其中所说的表面活性剂是从碳氟化合物或羧化物表面活性剂和足以提供碱度的基础成分组成的基团中选取的。(b)从工序(a)得到的预处理薄膜经水的清洗。(c)从工序(b)得到的巳预处理抗蚀剂膜同PH值至少为9和至少含有以显影液重量计0.0001%的表面活性剂的含水显影溶液接触，其中所说的表面活性剂是由碳氟化合物或羧化合物的表面活性剂组成的基团中选取的，以便溶解所说抗蚀剂膜的曝光部分。