[其他]新型太阳能反光材料及制备技术无效
申请号: | 85107406 | 申请日: | 1985-10-09 |
公开(公告)号: | CN85107406A | 公开(公告)日: | 1986-07-02 |
发明(设计)人: | 郭信章 | 申请(专利权)人: | 北京市太阳能研究所 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;G02B5/08 |
代理公司: | 北京市科技专利事务所 | 代理人: | 韩建功 |
地址: | 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种在不锈钢、碳钢、合金、玻璃、陶瓷及能耐温300℃左右高分子材料涂层上用磁控溅射方法制备ZrNx,TiNx及其它元素合金化合物的太阳能反光膜的工艺制备技术。在膜生成的磁控溅射过程中通过对基体如偏压来提高膜的反光率,改善表面状况,从而可得到光学性能和耐候性能优良的金属氮化物反光膜。该种反光膜具有成本低,寿命长,制备工艺简单等特点,可广泛应用于太阳能领域和其它装饰镀领域。 | ||
搜索关键词: | 新型 太阳能 反光 材料 制备 技术 | ||
【主权项】:
1、一种反光镀膜,其特征在于用磁控溅射方法在不锈钢,碳钢,其它合金材料,玻璃,陶瓷及能耐温300℃左右高分子材料涂层表面上制备ZrNx,TiNx及Zr,Ti与其它元素合金的化合物的反光镀膜。
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