[其他]新型太阳能反光材料及制备技术无效

专利信息
申请号: 85107406 申请日: 1985-10-09
公开(公告)号: CN85107406A 公开(公告)日: 1986-07-02
发明(设计)人: 郭信章 申请(专利权)人: 北京市太阳能研究所
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;G02B5/08
代理公司: 北京市科技专利事务所 代理人: 韩建功
地址: 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种在不锈钢、碳钢、合金、玻璃、陶瓷及能耐温300℃左右高分子材料涂层上用磁控溅射方法制备ZrNx,TiNx及其它元素合金化合物的太阳能反光膜的工艺制备技术。在膜生成的磁控溅射过程中通过对基体如偏压来提高膜的反光率,改善表面状况,从而可得到光学性能和耐候性能优良的金属氮化物反光膜。该种反光膜具有成本低,寿命长,制备工艺简单等特点,可广泛应用于太阳能领域和其它装饰镀领域。
搜索关键词: 新型 太阳能 反光 材料 制备 技术
【主权项】:
1、一种反光镀膜,其特征在于用磁控溅射方法在不锈钢,碳钢,其它合金材料,玻璃,陶瓷及能耐温300℃左右高分子材料涂层表面上制备ZrNx,TiNx及Zr,Ti与其它元素合金的化合物的反光镀膜。
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