[其他]带有保护涂层的碳或石墨体及其生产方法无效
申请号: | 85109647 | 申请日: | 1985-12-19 |
公开(公告)号: | CN85109647A | 公开(公告)日: | 1986-08-27 |
发明(设计)人: | 海茵里克·库恩;奥拉夫·斯蒂茨;卡尔·维默 | 申请(专利权)人: | 普拉斯马英万特股份公司 |
主分类号: | C23C4/04 | 分类号: | C23C4/04;H05B7/085 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 陈季壮,罗英铭 |
地址: | 瑞士楚格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 带有粗糙开孔表面的碳和石墨体,由一层耐温度变化和主要含有硅的牢固附着的保护层1所全部连续地保护。用真空等离子喷涂法沉积此保护层1,以产生无氧化物并且靠内部压应力起作用的延性层结构,在经受热应力期间这种结构无形成裂缝的倾向。涂敷过的石墨电极与未经保护的电极相比,在氧化性、侵蚀性和或磨蚀性气氛中剥蚀速率更低。 | ||
搜索关键词: | 带有 保护 涂层 石墨 及其 生产 方法 | ||
【主权项】:
1、具有粗糙、开孔表面和在其上沉积有硅层的碳或石墨体,其特征在于所说的硅层十分致密,残余孔隙率为2%,所说的表面得以完全覆盖,而且由于内部的压缩回弹性应变和抗氧化物性,使所述的硅层具有硅材料本身所不具备的延展性,因而在因温度变化引起强烈应变条件下阻止形成裂缝。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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