[其他]N,N-二代羧酸酰胺类的制造方法无效

专利信息
申请号: 86100282 申请日: 1986-01-15
公开(公告)号: CN86100282A 公开(公告)日: 1986-07-16
发明(设计)人: 加藤祥三;冈本秀则 申请(专利权)人: 德山曹达株式会社
主分类号: C07C103/30 分类号: C07C103/30;C07D333/06;C07D303/10;C07D317/14;C07D213/36;C07D239/26;C07D277/22;C07D271/10;C07D261/08
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 全永留
地址: 日本山口*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种制造式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类的新方法。它包括在式(IV)所示的硅烷化合物的存在下,使式(II)所示的席夫碱与式(III)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类。
搜索关键词: 二代 羧酸 酰胺类 制造 方法
【主权项】:
1、一种制造式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类的方法,所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。在式(I)中,R表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、链烯氧基、取代的羰基或者三卤代甲基;R1,R2和R3(彼此独立)表示取代或未取代烷基、取代或未取代链烯基、取代或未取代炔基、取代或未取代芳基、取代或未取代杂芳基、取代或未取代环烷基、取代或未取代环链烯基、或者取代或未取代杂环烷基;R1还可表示氢原子;R和R1以及与它们键合碳原子一起可形成取代或未取代环状基。在式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的规定。在式(Ⅲ)中的R3是按上述的规定,M表示卤原子或部分。在式(Ⅳ)中的X,Y和Z(彼此独立),表示氢原子或卤原子。
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