[发明专利]N,N-二代羧酸酰胺类的制造方法无效

专利信息
申请号: 86100282.2 申请日: 1986-01-15
公开(公告)号: CN1009824B 公开(公告)日: 1990-10-03
发明(设计)人: 加藤祥三;冈本秀则 申请(专利权)人: 德山曹达株式会社
主分类号: C07C231/10 分类号: C07C231/10;C07B43/06;C07C233/00;C07D227/00;C07D247/00;C07D269/00;C07D283/00;C07D325/00;C07D333/00
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 全永留
地址: 日本山口*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种制造式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,它包括在式(IV)所示的硅烷化合物的存在下,使式(II)所示的席夫碱与式(III)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有惰性的有机溶剂存在。制造可用于例如医药品、农雨化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺。
搜索关键词: 二代 羧酸 酰胺类 制造 方法
【主权项】:
1、一种制造式(Ⅰ)所示的N,N,-二代羧酸酰胺的方法,所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有惰性有机溶剂存在,并以一步方式进行。在式(Ⅰ)中,R表示氢原子、C1-C10烷基、C2-C6链烯基、C1-C6烷氧基、C2-C6链烯氧基、C1-C4烷基羰基、C1-C4烷氧基羰基、苯基羰基或三卤代甲基;R1表示氢原子、取代或未取代的C1-C15烷基(所述的烷基取代物选自C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基羰基、苯氧基、氰基、硝基和卤原子)、未取代的C2-C6链烯基、有呋喃基取代的C2-C6链烯基、C2-C6炔基、取代或未取代的C6-C20芳基(所述的芳基取代物选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、在烷基部分具有1-6个碳原子的烷基硫代基、在烷基部分具有1-4个碳原子的二烷基氨基、氰基、硝基、三卤代甲基和卤原子)、具有1-4个杂原子(选自氮、氧和硫)的取代或未取代的C5-C20杂芳基(所述的杂芳基的取代物选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、在烷基部分具有1-6个碳原子的烷基硫代基、硝基和卤原子)、取代的或未取代的C3-C20环烷基(所述的取代物为苯基)、取代的或未取代的C3-C20环链烯基(所述的取代物选自C1-C6烷基和C1-C6链烯基)、或具有2-20个碳原子和1-4个杂原子(选自氧和氮)的杂环烷基;R2表示取代或未取代的C1-C15烷基(所述的烷基取代物选自C1-C6烷氧基、在烷基部分具有1-6个碳原子的烷基硫代基、苯基、呋喃基、卤代C1-C4烷基、和卤原子)、取代或未取代的C2-C15链烯基(所述的取代物选自氰基和二烷基氨基)、C2-C15炔基、取代或未取代的C6-C20芳基(芳基的取代物选自C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基、在烷基部分具有1-4个碳原子的烷基羰基、硝基、卤代C1-C4烷基和卤原子)、具有1-4个杂原子(选自氮、氧和硫)的取代或未取代的C5-C20杂芳基(所述杂芳基的取代物选自C1-C6烷基、C1-C4烷氧基羰基和苯基)、取代或未取代的C3-C20环烷基(所述环烷基的取代物选其C1-C6烷基、苯基和卤原子)、取代或未取代的C3-C20环链烯基(所述取代物为C1-C6烷基)、或具有1-4个杂原子(选自氧和氮)的取代或未取代的C2-C20杂环烷基(所述取代物为C1-C6烷基);R3表示取代或未取代的C1-C15烷基(所述烷基的取代物选自C1-C6烷氧基、C1-C6烷基硫代基、C1-C4烷氧基羰基、C1-C4烷基羰基、氰基、硝基、苯基、具有选自硫和氮的杂原子的C3-C4杂芳基、和卤原子)、取代或未取代的C2-C15链烯基(所述链烯基的取代物选自呋喃基和卤原子)、取代或未取代的C6-C15芳基(所述芳基的取代物选自C1-C6烷基、硝基和卤原子)、取代或未取代的具有1-4个杂原子(选自氮、氧和硫)的C5-C20杂芳基(所述杂芳基的取代物选自C1-C6烷基、在烷基部分具有1-6个碳原子的烷基硫代基、和卤原子)、C3-C15环烷基、或具有氮原子作为杂原子的C2-C15杂环烷基;R和R′以及与它们键合的碳原子一起可形成取代的C5-C10环烷基或具有氮原子作为杂原子的取代的C5-C10杂环烷基(所述环烷基和杂环烷基的取代物为C1-C5烷基);席夫碱由下式(Ⅱ)表示:在式(Ⅱ)中的R,R1和R2如同上述规定;羧酸衍生物由下式(Ⅲ)表示:在式(Ⅲ)中的R3如同上述规定,M表示卤原子或部分;硅烷化合物由下式(Ⅳ)表示:在式(Ⅳ)中的X、Y和Z(彼此独立)表示氢原子或卤原子,并且X、Y和Z中至少一个表示卤原子。
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