[其他]敷镀金属工艺无效
| 申请号： | 86101908 | 申请日： | 1986-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN86101908A | 公开（公告）日： | 1987-10-07 |
| 发明（设计）人： | 利·H·米勒;马克斯·拉斯穆森 | 申请（专利权）人： | 埃罗—瓦尼施公司 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 全莆,吴大建 |
| 地址： | 荷兰阿姆斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种适用于基片上敷镀金属的工艺及其制品。在传送体上沉积极薄的(显著小于光的波长)金属微粒镀层。薄漆涂层加到基片上或传送体上，把基片和传送体叠压在一起，将漆固化。金属微粒将被吸收在漆内，然后分离基片和传送体。该基片具有良好抛光的镜面反射金属表面涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 镀金 工艺 | ||
【主权项】：
1、利用一个可重复使用的传送体给基片敷镀金属的工艺包括如下工序：在传送体上沉积金属微粒镀层，其厚度显著小于500；用漆涂覆上述基片和上述已敷镀金属传送体中至少一种的一部分；在上述漆固化以前，叠合上述基片和上述传送体在一起；因此上述金属微粒嵌入上述漆中；固化上述漆；从上述基片分离上述传送体，于是上述基片具有上述金属微粒涂层，该涂层允许部分光线透射，好象是连续而呈现出镜面反射金属表面光洁度；在敷镀金属工艺中，重复使用上述传送体。
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