[其他]制造薄膜线条的工艺无效
| 申请号： | 86102448 | 申请日： | 1986-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN86102448A | 公开（公告）日： | 1986-10-29 |
| 发明（设计）人： | 吉亚姆比罗·弗拉里斯;安东尼奥·特萨尔维 | 申请（专利权）人： | 格特电信公司 |
| 主分类号： | H05K3/18 | 分类号： | H05K3/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 孙令华,林伯楠 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明叙述了一种利用光刻厚的光致抗蚀剂，并继而电化选择生长金的技术制造薄膜线条的工艺。本发明的工艺可以制得具有高分辨率的非常细(2-10微米)的线条(8)，即侧壁面(9)几乎是垂直的，宽度的公差仅约一微米。这种结果是采取了下列措施取得的，即采用聚酰亚胺作厚的光致抗蚀剂(3)，让其经历特殊的固化期，采用特殊的干蚀刻工艺在聚酰亚胺层上制得凹座(6)，其后，在凹座(6)内制备线条(8)。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 薄膜 线条 工艺 | ||
【主权项】：
1、利用光刻厚的光致抗蚀剂，并继而电化选择生长金属的技术制造薄膜线条的工艺。其特征在于厚光致抗蚀剂的制备是在一绝缘基片(1)上涂复第一层聚酰亚胺(3a)，接着进行第一次固化，再继以涂复第二层聚酰亚胺(3b)，并接着进行第二次固化。
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