[发明专利]多室淀积设备无效
申请号: | 87104355.6 | 申请日: | 1987-06-22 |
公开(公告)号: | CN1020045C | 公开(公告)日: | 1993-03-10 |
发明(设计)人: | 里查德·L·雅各布森;弗兰克·R·杰弗里;罗格·维斯特伯格 | 申请(专利权)人: | 明尼苏达采矿和制造公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 薛明祖 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在一个大真空室内将不同涂层同时淀积到一薄带材上的淀积系统已经公开。该系统具有多个淀积室,在这些淀积室内,当带材自送料辊移至终端的被淀积带材的卷紧辊的过程中被淀积上不同的涂层。大真空室内的各淀积室具有各自的密封,最大限度地防止相邻淀积室中含有各种掺杂物的气体发生反扩散。 | ||
搜索关键词: | 多室淀积 设备 | ||
【主权项】:
1.一种真空淀积设备,用来将各种成分的涂层材料淀积到—移动的带材上,每一涂层都借辉光放电来得以淀积,该设备包括:一个大真空室,大真空室内用来支承带材辊子的装置,大真空室内用来重新卷绕淀积过的带材的卷绕辊,大真空室内的几个相互间隔安放的淀积室,对贯穿各个淀积室的带材进行导向的装置,每个淀积室包括构成带有一个导入带材的入口槽和一个导出带材出口槽的箱体的侧壁,槽的作用是给通道以一定的限定,将气体输入淀积室的装置,将淀积室加热的装置,使淀积室内产生电势从而产生等离子体使得气体中至少有一种元素淀积到带材上的装置,连续地将带材自送料辊送进到卷紧辊装置,一个与上述大真空室相连的泵装置,用来保持该大真空室在一压力内,该压力比每一个上述淀积室的压力低些,以防止气体从一个淀积室扩散到另一个淀积室中去。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的