[发明专利]可曝光成像的焊接掩膜涂料无效
申请号: | 87107321.8 | 申请日: | 1987-12-08 |
公开(公告)号: | CN1031227C | 公开(公告)日: | 1996-03-06 |
发明(设计)人: | 桑格维特·赛特哈查亚农 | 申请(专利权)人: | 阿姆斯特朗电界工业公司 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/035 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 任宗华,林柏楠 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 介绍了一种紫外线光敏涂料组合物,它是一种由二异氰酸酯、羟烷基(二或三)(甲基)丙烯酯与羧酸多羟基化合物的缩合反应制备的聚合物。也可选择使用一种多羟基化合物和/或一种二元羧酸多羟基化合物作为反应剂。由此制备的涂料聚合物也可与粘合剂和交联剂相混合。 | ||
搜索关键词: | 曝光 成像 焊接 涂料 | ||
【主权项】:
1.一种焊接掩膜涂料组合物,其特征在于:该组合物含有(1)一种树脂粘合剂;(2)一种交联剂和(3)一种选自羧酸化氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯二丙烯酸酯、羧酸化氨基甲酸酯三丙烯酸酯和羧酸化氨基甲酸酯三甲基丙烯酸酯的紫外线光敏聚合物;通过使含有成分(a)、(b)和(c)的反应混合物缩合制备该紫外线光敏聚合物,成分(a)是一种带有6至18个碳原子的二异氰酸酯,成分(b)是通式为〔OH〕x—R6—COOH的羧酸多羟基化合物,式中X可以是2至5的整数,R6是直链或支化,饱和、不饱和或芳香类带2至29个碳原子的烃基,成分(c)为甲基丙烯酸羟烷酯,其中的烷基带有2至28个碳原子;成份(a)的用量为反应混合物总重量的30%至80%;成份(b)的用量为反应混合物总重量的5%至45%而使每克反应混合物总量的酸量至少为0.3毫克当量;成份(c)的用量为反应混合物总重量的5%至50%而使每克反应混合物总量的丙烯酸酯量至少为0.5毫克当量,其中紫外线光敏聚合物具有亲水性,并且在紫外线照射之前,由此涂料组合物制备的焊接掩膜涂层在pH值大于7.5的水溶液中可溶或可溶胀,而且紫外线光敏聚合物应达到组合物总重量的10—85%。
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