[发明专利]四硼酸锂(LBO)单晶的坩埚下降法生长无效
申请号: | 88105599.9 | 申请日: | 1988-11-05 |
公开(公告)号: | CN1015920B | 公开(公告)日: | 1992-03-18 |
发明(设计)人: | 范世 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B11/14 |
代理公司: | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人: | 聂淑仪 |
地址: | 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 四硼酸锂单晶(Li2B4O7∶LBO)的坩埚下降法(Bridgman)生长,属于单晶生长领域。本发明的特征是横截面积P(=S晶种/S晶体)≥15%的LBO晶种和密度为0.9~1.4克/厘米3的LBO压块,放入壁厚为0.08~0.15毫米的铂金坩埚中,在950~1100℃炉温下熔化压块和晶种顶部,再将铂坩埚以≤0.3毫米小时的速度下降,即可生长出无色透明,完整性好,不易开裂的LBO单晶体。本方法温场稳定,工艺设备简单,操作方便,可将多只坩埚放入Bridgman单晶炉内,同时生长不同形状和尺寸的单晶。 | ||
搜索关键词: | 硼酸 lbo 坩埚 下降 生长 | ||
【主权项】:
1.一种坩埚下降法生长四硼酸锂单晶(Li12B4O7;LBO)的技术,包括:(1)晶种沿,,,等取向;(2)高纯LBO粉料经静水压或模压成型,成压块;(3)压块置铂金坩埚内在950~1100℃下熔化;其特征在于:①压块密度为0.9-1.4克/厘米3;②所用铂金坩埚壁厚为0.08-0.15毫米;③垂直于生长方向的晶种横截面积与生长晶体的横截面积之比为≥15%;④以≤0.3毫米/小时的速度作坩埚下降。
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