[发明专利]用于溶剂可显影的光刻涂层的含水的显影剂组成物无效
| 申请号： | 89101298.2 | 申请日： | 1989-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1039904A | 公开（公告）日： | 1990-02-21 |
| 发明（设计）人： | 保罗·L·K·洪;肯尼思·K·S·采恩 | 申请（专利权）人： | M&T化学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海专利事务所 | 代理人： | 徐志奇 |
| 地址： | 美国新泽西*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供含水的显影剂组成，可显影溶剂可显影的光敏材料，并由表面活性剂、萜烯和水以一定比例构成；包括约0.5-10％重量表面活性剂和约0.2-10％重量萜烯，余量为水。更好的是包括约3-6％重量表面活性剂和约4-8％重量萜烯，余量为水；表面活性剂较好地为非离子表面活性剂或其混合物，且萜烯为α-萜二烯。本发明还提供浓缩液配方，含水显影剂组成物可通过用水稀释来制备，通常水用量为其5-10倍。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溶剂 显影 光刻 涂层 含水 显影剂 组成 | ||
【主权项】：
1、一种用于显影焊料光刻掩模涂层的显影剂组成物，包括：a)约0.5-10%重量的表面活性剂，b)约0.2-10%重量的萜烯，及c)其余为水。
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