[发明专利]防止聚合物结垢的方法

摘要

一种可在含有乙烯基双键的单体聚合中防止聚合物在聚合釜中结垢的方法，所述聚合反应是在聚合釜中进行的，该聚合釜的内壁面预先用涂层溶液涂层，并干燥形成了涂层，该涂层溶液的pH值大于7并且含有(A)至少一种选自特定的阴离子染料、由特定芳香胺化合物与特定芳香族硝基化合物的缩合物磺化的磺化产物的咸金属盐和铵盐；和(B)一种特定的阳离子染料。这方法可有效地防止乙烯基双键单体聚合中形成聚合物垢皮，故可重复进行100次或更多次聚合反应而不会使聚合物结垢。

主权项

1、一种在有乙烯基双键的单体聚合中可防止聚合物在聚合釜中结垢的方法，其中所述聚合反应是在聚合釜中进行，该聚合釜的内壁面已预先涂敷涂层溶液，然后干燥形成涂层，该涂层溶液的pH值大于7，并含有(A)和(B)组分，组分(A)为C.I.酸性黑1、C.I.酸性黑2、C.I.酸性黑124、C.I.直接蓝1、C.I.直接蓝6、C.I.直接蓝71、C.I.直接黑2、C.I.直接黑19、C.I.直接黑32、C.I.直接黑38、C.I.直接黑77、C.I.酸性蓝1、C.I.酸性蓝2、C.I.酸性蓝40、C.I.酸性蓝59、以及磺化产物的碱金属盐和铵盐中的至少一种化合物，而该磺化产物是由通式(I)的芳香胺化合物与通式(II)的芳香族硝基化合物的缩合物磺化制得，其中，R1是氢原子、-NH2、-N=N-C6H5、-NH-C6H5或-NH-C6H4-NH2，R2是氢原子或-NH2，其中：R3是氢原子或-NH2；组分(B)为选自C.I.溶剂黑3、C.I.溶剂黑5、C.I.溶剂黑7、C.I.溶剂黑22、C.I.碱性黑2、C.I.碱性桔黄2、C.I.碱性桔黄14、C.I.溶剂蓝2、C.I.溶剂蓝11、C.I.溶剂蓝12、C.I.溶剂蓝25、C.I.溶剂蓝35和C.I.溶剂蓝36中的至少一种化合物。