[发明专利]镀有陶瓷薄膜的制品无效
| 申请号： | 89107368.X | 申请日： | 1989-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1041188A | 公开（公告）日： | 1990-04-11 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;林茂则;广濑直树;石田典也;竹山顺一;佐佐木麻里 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/34;C23C16/42 |
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 何耀煌,肖掬昌 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 汽车或类似装置的、镀有碳质薄膜的车架或部件包括从导体和具有导电表面的构件的一类部件中选用的基底构件；在该基底构件上形成的、其中包含有机物的涂料，从由碳或以碳为主要成分并加有卤素的材料构成的一类薄膜中选出的透明碳质薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷 薄膜 制品 | ||
【主权项】：
1、一种镀有陶瓷薄膜的制品，其特征在于包括：从导体和具有导电表面的构件的一类部件中选用的基底构件，在该基底构件上形成的、其中包含有机物质的涂料，半透明的陶瓷薄膜。
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
