[发明专利]2,3-二氢苯并呋喃衍生物除草剂及其制备方法无效
申请号: | 90100328.X | 申请日: | 1990-01-17 |
公开(公告)号: | CN1044279A | 公开(公告)日: | 1990-08-01 |
发明(设计)人: | 浅野保;新井清司;小泽修二;三浦澈;乡原雅敏;西田诚;山崎秀雄;小山田正美 | 申请(专利权)人: | 三井东压化学株式会社 |
主分类号: | C07D307/78 | 分类号: | C07D307/78;C07D413/04;C07D405/04;C07D407/04;C07C307/80;C07D307/83;C07D307/82;A01N43/12;A01N43/84 |
代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 孟八一,齐曾度 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及新的一类2,3-二氢苯并呋喃衍生物以及以该衍生物为有效成分的除草剂。 | ||
搜索关键词: | 二氢苯 呋喃 衍生物 除草剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种通式(I)表示的2,3-二氢苯并呋喃衍生物,式(I)为式中R1代表氢原子、羟基、低级烷氧基、氨基、吗啉代或基团:-OCOR4[式中R4代表低级烷基、环烷基、卤素取代的低级烷基、低级烷氧基取代的低级烷基、基团-(CH2)nCO2R2(式中R5代表低级烷基,n代表整数1或2)、苄基、苯乙烯基、低级烷氧基、苯氧基、吡啶基、喹吩基、呋喃基或基团:(式中R6代表氢原子、卤素原子、氰基、乙酸基、低级烷基、低级烷氧基、m代表整数1-5)],R2代表氢原子或与R1一起代表氧原子,R3代表氢原子、甲基或卤素原子。
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