[发明专利]采用微波等离子法连续制成大面积功能淀积薄膜的方法以及适用该方法的设备

摘要

一种采用微波等离子CVD工艺连续形成大面积功能性淀积薄膜的方法，所述方法包括按纵向连续移动的基片带；在基片移动过程中通过弯曲和凸起所述移动基片带以形成所述成膜室圆周壁的圆筒形部分从而建立具有成膜空间的基本封闭的成膜室；通过气体输送装置将成膜原材料气体导入所述成膜空间；同时，通过采用微波施加装置将微波能辐射或传播到所述成膜空间，其中微波施加装置能够以垂直于微波能传播方向具有方向性地辐射或传播所述微波能以便在所述成膜空间产生微波等离子区，由此在暴露于所述微波等离子区的所述连续移动圆周壁的内表面上连续形成功能性淀积薄膜。一种适用于实际所述方法的装置。

主权项

1.一种采用微波等离子CVD工艺连续形成大面积淀积薄膜的方法，所述方法其特征在于包括以下步骤：在纵向上连续移动基片带；通过弯曲并凸起所述移动基片带以形成所述成膜室圆周壁的圆筒部分，从而建立具有成膜空间的基本封闭的成膜室，在该成膜空间内或附近设置一个微波施加装置，该微波施加装置包含一个波导管，该波导管具有穿透其一侧面的小孔，还具有两个相对的端部，其中一个端部与一个微波源相连接，所述的微波施加装置封装在由微波传导材料制造的隔离装置内；通过气体输送装置将成膜原材料气体引入所述成膜空间；与此同时，通过采用微波施加装置的上述小孔将微波能辐射或传播到所述成膜空间，其中微波施加装置能够在垂直于微波传播方向上具有方向性地辐射或传播所述微波能，以在所述成膜空间产生等离子区，由此在暴露于所述等高子区的所述连续移动圆周壁的内表面上连续形成一层淀积薄膜。