[发明专利]由2-吡咯基烟酸酯衍生的除草剂

摘要

本发明涉及如下列结构式的除草剂化合物其中A是氢原子或R7SO2-基团，R1是H或烃基团，R2是H、盐、X2R5(酯)或NR3R4(酰胺)基团，R7是烷基、芳基、芳烃基或NR8R9基团，W是-N＝或-CR10＝，其中R1和R10一起形成一融合芳族环，Y是烷基或烷氧基或齿素或二烷基氨基，以及n＝1至3的整数。

主权项

1、一种通式为(Ⅰ)的化合物，其中：A是氢原子或R7SO2基团，R1是氢原子、可选择性地取代的烷基、可选择性取代的环烷基、可选择性取代的芳基、可选择性取代的芳烷基，对芳基或芳烷基环中还可能包含1至4个杂原子，杂原子选自氧原子、硫原子或氮原子(例如呋喃基、噻吩基或吡啶基)，R2选自结构式为X1M、X2R5、NR3R4、NR8R9的基团。在X1M中，M是有机或无机阳离子，X1是氧原子或硫原子；在X2R5中，R5具有R1意义中的一种，或是一种烷基，它可选择性地由链烯基、炔基(特别是烯丙基、炔丙基或2-丁烯基基团)取代，所述烷基可选择性地由较佳不含超过8个碳原子的链烯基或炔基取代，X2是氧原子或硫原子；在NR3R4中，R3和R4是相同的或不同的，它们选自氢原子、可选择性取代的烷基、可选择性取代的环烷基、可选择性取代的芳基、可选择性取代的芳烷基或OR6基团，R6具有R1意义中的一种，R7是可选择性取代的烷基、可选择性取代的环烷基、可选择性取代的芳基或可选择性取代的芳烷基；在NR8R9中，R8和R9是相同或不同的，它们具有R1意义中的一种或它们可与它们所结合的氮原子一起形成一含有1至3个杂原子的杂环(较佳含有4至6环原子)。W是=N-或=CR10-基团，R10具有R1意义中的一种，或R1和R10以及它们所结合的原子一起形成一个环，该环与咪唑环一起形成一两个融合环的芳族系统，R1和R10构成一具有三个原子(其中一个是硫或氧，另二个是碳)的链或含有两个双键的四个碳原子的链，或包含1至3个氮原子和3至1个碳原子的四个原子的链，这些链可选择性地由1至4个Y1基团(选自可选择性取代的烷基、可选择性地取代的烷氧基或硫代烷基)、卤基、二烷基氨基、两个选自烷氧基、硫代烷基或烷基的基团(一起在4，5位或5，6位取代)取代，它与它们所结合的碳原子一起能形成具有5或6个原子并具有不超过两个杂原子(选自氧或硫)的脂族环；Y是可选择性取代的烷基、可选择性取代的烷氧基或硫代烷基、卤原子，对于所述Y基团来说下面这样是可能的，如果n等于2或3，并且如果它们位于氮原子的相邻α和β位时，Y基团与它们所结合的碳原子一起能进一步形成一融合苯基环(苯并基团)，或可形成含有5或6个原子(可选择性地为杂环)并且不超过2个非邻近杂原子(选自氧或硫原子)的脂族环；n是正整数或零，它小于4，应该知道，如果n大于1，Y基团可以是相同的或不同的。