[发明专利]对置于近场中的物质所吸收或衍射的光进行精密光谱分析的方法在审
| 申请号： | 90108830.7 | 申请日： | 1990-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN1052373A | 公开（公告）日： | 1991-06-19 |
| 发明（设计）人： | 德·福尔耐尔·弗雷德里克;古东内·让-皮埃尔 | 申请（专利权）人： | 斯皮拉尔研究发展公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N23/06;G02B6/26;G02B21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 冯赓瑄 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对被透光和/或反光的放置于近场中的物质所折射或吸收的光的精确光谱分析方法，该近场由第一电磁辐射在传播或反射中产生，其特征在于该精确光谱分析在所述的近场和/或第二电磁辐射的基础上进行，同时与所述的第一电磁辐射一道引至所述的物质上，所述的分析与所述的近场或与所述物质相互作用的第二电磁辐射的一部分有关。本发明特别适于透光和/或反光物质的高解析度光谱研究，其光轮廓或几轮廓借助于光学近场扫描显微镜如受抑瞬态场传播显微镜或引导近场反射显微镜的帮助同时得到测量。 | ||
| 搜索关键词： | 置于 近场 中的 物质 吸收 衍射 进行 精密 光谱分析 方法 | ||
【主权项】：
1、被放置于近场中的透光的和/或反光的物质折射或吸收的光的精确光谱分析方法，所述近场是由第一电磁辐射在传播或反射中产生的，其特征在于这种精确光谱分析是在所述的近场之上和/或与上述的第一电磁辐射同时到达所述物质之上的第二电磁辐射上进行的，所述的分析与所述的近场或与所述的物质发生相互作用的所述的第二电磁辐射的一部分有关。
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