[发明专利]用于磁光记录的氧化锌或氧化铟基层的铂或钯/钴多层薄膜无效

专利信息
申请号: 91102106.X 申请日: 1991-03-15
公开(公告)号: CN1055831A 公开(公告)日: 1991-10-30
发明(设计)人: 彼得·弗朗西斯·加西亚 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/70
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 黄家伟
地址: 美国特*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种磁光记录介质,包括有基底;溅射在基底上的氧化锌或氧化铟基层,以及溅射在氧化锌或氧化铟基层上的多层记录薄膜。其中氧化锌或氧化铟基层,是由200埃左右到4500埃左右厚(20毫微米左右到450毫微米左右),最好是由200埃左右到2000埃左右厚(20毫微米左右到200毫微米左右);多层记录薄膜,是由铂和钴或钯和钴的交替层组成的铂/钴或钯/钴多层薄膜,以及对于记录和读出所用的辐射,基底是透明的。
搜索关键词: 用于 记录 氧化锌 氧化 基层 多层 薄膜
【主权项】:
1、一种磁一光记录介质,它包括有:基底、溅射在所说基底上的氧化锌或氧化铟基层、以及溅射在所说氧化锌或氧化铟基层上的多层记录薄膜,其特征在于:其中所说氧化铟或氧化锌基层厚约200埃到约4500埃(约20毫微米到约450毫微米),所说多层记录薄膜是铂/钴多层薄膜或钯/钴多层薄膜,是由铂或钴或钯和钴的交替层组成,所说基底对用于记录和读出的辐射是透明的,并且在溅射所说多层薄膜时所用的溅射气体是氩、氪、氙或其混合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳幕尔杜邦公司,未经纳幕尔杜邦公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/91102106.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top