[发明专利]膜／基结合强度的检测方法及其装置无效
| 申请号： | 91106170.3 | 申请日： | 1991-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN1037372C | 公开（公告）日： | 1998-02-11 |
| 发明（设计）人： | 李曙;李诗卓;魏向东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | G01N19/04 | 分类号： | G01N19/04 |
| 代理公司： | 中国科学院沈阳专利事务所 | 代理人： | 闵宪智 |
| 地址： | 110015 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种膜／基结合强度的检测方法及其装置，系属于力学测试领域。本发明的主要特征是基于膜／基界面的不连续性，利用所测的能耗或切向力在破膜时出现的突变作力膜／基剥离的判据，扣除膜、基各自的能耗而获得一个与界面结合密切相关的结合能判据。为实施上述方法，本发明还提供了一个检测装置，其装置中的样品台可做升降运动。 | ||
| 搜索关键词： | 结合 强度 检测 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜/基结合强度的检测方法，其特征在于：(1)利用单摆冲击划痕仪的划头以1～3m/s的速度划过带有薄膜的平面样品，划头依次与膜层表面接触，进入表层，透过膜/基界面，侵入基材直至最深处后再以相反的过程掠出样品表面；(2)在此过程中分别测出不同入侵深度划痕的能量消耗和最大剪切力；获得界面结合强度的判据基于膜/基界面的不连续性，利用在界面破坏时出现的切向力和能耗的突变，求出突变时对应的法向力和显露膜/基界面单位长度所消耗的能量来评价薄膜和基材的结合强度。
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