[发明专利]用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统无效
申请号: | 91110769.X | 申请日: | 1991-11-11 |
公开(公告)号: | CN1072273A | 公开(公告)日: | 1993-05-19 |
发明(设计)人: | 沈冠群;吴宾初;蔡康泽;曹沛其;黄宣邵;陈垦 | 申请(专利权)人: | 上海市激光技术研究所 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02B5/18 |
代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 20023*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明揭示了一种制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统,该系统包括使待刻划码盘匀速旋转的回转台装置;产生与待刻划码盘角位置锁定且与待刻划码盘所需的编码图形相应的编码信号的编码信号产生装置;受所述编码信号控制、在码盘的待刻划区域中形成直径为微米级或亚微米级光斑的刻划光斑产生装置;使所述刻划光斑与待刻划码盘产生相对位移的径向直线进给装置。本发明具有刻划速度快、精度高及可刻划图案复杂的光栅码盘的优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 制作 圆光 栅码盘 逐点光 刻划 方法 及其 系统 | ||
【主权项】:
1、一种用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法,其特征在于包括下列步骤:使待刻划码盘匀速旋转;产生与待刻划码盘角位置锁定且与该待刻划码盘要求的编码图形相应的编码信号;产生受所述编码信号控制的、直径为微米级或亚微米级的刻划光斑;使刻划光斑会聚于待刻划码盘的待刻划区域并使所述刻划光斑在所述待刻划码盘旋转过程中沿该码盘径向直线进给,从而形成平面螺旋线的刻划轨迹。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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