[发明专利]用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统无效

专利信息
申请号: 91110769.X 申请日: 1991-11-11
公开(公告)号: CN1072273A 公开(公告)日: 1993-05-19
发明(设计)人: 沈冠群;吴宾初;蔡康泽;曹沛其;黄宣邵;陈垦 申请(专利权)人: 上海市激光技术研究所
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G02B5/18
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 沈昭坤
地址: 20023*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明揭示了一种制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法及其系统,该系统包括使待刻划码盘匀速旋转的回转台装置;产生与待刻划码盘角位置锁定且与待刻划码盘所需的编码图形相应的编码信号的编码信号产生装置;受所述编码信号控制、在码盘的待刻划区域中形成直径为微米级或亚微米级光斑的刻划光斑产生装置;使所述刻划光斑与待刻划码盘产生相对位移的径向直线进给装置。本发明具有刻划速度快、精度高及可刻划图案复杂的光栅码盘的优点。
搜索关键词: 用于 制作 圆光 栅码盘 逐点光 刻划 方法 及其 系统
【主权项】:
1、一种用于制作圆光栅码盘的逐点光刻划方法,其特征在于包括下列步骤:使待刻划码盘匀速旋转;产生与待刻划码盘角位置锁定且与该待刻划码盘要求的编码图形相应的编码信号;产生受所述编码信号控制的、直径为微米级或亚微米级的刻划光斑;使刻划光斑会聚于待刻划码盘的待刻划区域并使所述刻划光斑在所述待刻划码盘旋转过程中沿该码盘径向直线进给,从而形成平面螺旋线的刻划轨迹。
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