[发明专利]空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法

摘要

精细加工技术领域的空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，在圆柱形线圈绝缘性骨架上镀铜膜或别种金属膜，在其上涂覆光刻胶，分别制作三块弧面形成一块平面透明螺线模板和一个截顶45度内锥反射面，以一定的方式进行曝光，再将曝光后的工件投入显影和刻蚀工序制成单层载电流线圈。在已制成的单层线圈上镀绝缘层，再按上述方法制成多层载电流线圈。本发明取消线圈的绕制工艺，降低成本，提高了性能一致性和使用寿命。

主权项

1.空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，其特征在于包括下列步骤：①制作工件，在圆柱形线圈绝缘性骨架上镀上铜膜或别种金属膜，然后在这层金属膜表面涂覆光刻胶；②制作模板，在玻璃或金属板上制作三块弧面形模板，每块模板对截面圆心的张角略大于120度，在每块模板上根据具体要求的线宽、线间距和总匝数以机械方法或光刻方法刻出透明平行弧线，模板的大小由成像倍数决定；③曝光，用三个光源，三个弧面形模板、三个透镜成像系统彼此成120度排列在一个平面上，同时成像于位于中心位置的工件上，使三个模板上的平行弧线的像相互连接成一个围绕工件圆柱的空间螺旋线进行曝光；④将曝光后的工件投入显影和刻蚀这些光刻工艺的后处理工序，制成单层载电流线圈。