[发明专利]形成光稳定的全息图的方法

摘要

本发明公开了一种形成光稳定的全息图的方法，更具体地讲，是在光聚合层上形成光稳定的全息图。该光聚合层含有聚合物粘合剂、液态含烯不饱和单体和光引发剂体系。典型的材料按规定的测试方法测得折射率调制值至少为0.005。

主权项

1、一种在基片表面的光聚合层上形成光稳定的全息图的方法，它包括(任意次序)：(A)用载有全息图信息的经调制的光化辐射使一种光聚合元件曝光，此元件包括一片状支持体和可剥离地粘附在它上面的光聚合层，该光聚合层包括：(a)一种溶剂可熔的热塑性聚合材料，(b)至少一种能起加成聚合反应并且具有高于100℃的沸点的液态含烯不饱和单体，(c)一种可由光化辐射致活的光引发剂体系，其中此材料的折射率调制值至少为0.005，它的测定是由空间频率约为1000线/毫米的透射光栅用632.8nm辐射而测得的，此透射光栅是用层状的上述材料层经过全息照相制成的，其中载有全息图信息的经调制的光化辐射的形成是由一束相干光化辐射的参比光束与另一束同样的经影像调制的相干光化辐射的相互作用造成的，其中交汇平面就是光聚合层的平面；(B)将光聚合层表面铺到基片表面上；然后(C)从曝光过的光聚合物层上除去片材支持体。