[发明专利]圆柱表面投影式曝光方法

摘要

一种可广泛地用来制造光学、电子学和电磁学元件的圆柱表面投影式曝光方法。该方法利用光学成像原理，通过采用锥角为90°的锥形反射面直接将平面掩膜图案投影到圆柱表面上，具有曝光效率高、精度高，适合于工业生产的优点。

主权项

1、圆柱表面投影式曝光方法，首先准备一个由光源、均光光学部件及投影光学元件组成的能在掩膜平面上形成的光能分布为从掩膜中心开始沿径向任一点上的能量与该点到掩膜中心的距离成反比的照明光学系统，确定所需曝光图案的平面掩膜及其定位系统，其特征在于，同时还得准备一个由平面光学成像光组、锥面反射元件、快门、滤光片及光圈组成的能够形成平面与圆柱面之间为共轭成像关系的光学成像系统；在平面掩膜的共轭像面上放置载有待曝光圆柱面的工件及其定位系统，其次，按下述步骤进行曝光：1)打开光源；2)设置滤光片，使通过的光处于光刻胶不感光波段；3)设置光圈并打开快门；4)将平面掩膜板安装在定位系统上，并调整到所需位置上；5)将涂有光刻胶的圆柱工件安装在定位系统上，并调整到所需位置上；6)关闭快门；7)去掉滤光片；8)打开快门曝光，到预先设定的时间后关闭快门。