[发明专利]改善了与基片的结合程度的金属箔以及制造这种金属箔的方法无效

专利信息
申请号: 92105142.5 申请日: 1992-06-27
公开(公告)号: CN1068155A 公开(公告)日: 1993-01-20
发明(设计)人: 理查德·J·萨迪;丹尼斯·M·扎特 申请(专利权)人: 古尔德有限公司
主分类号: C25D5/10 分类号: C25D5/10;C25D7/06;H05K3/38;B32B15/01
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 范本国
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明为一种具有改善的与基片结合程度的金属箔,它在一个表面上有三层重叠的电解沉积层,邻近所述表面的第一层为主要成分是第一金属的树状沉积层,第二层是在所述第一层上面均匀沉积的金属闪光膜,第三层为树状沉积。所披露的制造这种金属箔的方法的组成是(A)在所述箔上电解沉积一个以第一金属为主要成分的树状沉积层;(B)在(A)的树状沉积层上电解沉积一个金属闪光膜;(C)在(B)的所述金属闪光膜上电解沉积一个树状沉积金属层。
搜索关键词: 改善 结合 程度 金属 以及 制造 这种 方法
【主权项】:
1、在其表面上有三个重叠电解沉积层(a)、(b)和(c)的金属箔,其中,邻近所述表面的第一层(a)是主要含有一种金属的树状沉积层,第二层(b)是一金属闪光膜,均匀沉积于所述第一层上面,以不同于所述第一种金属的第二种金属为其主要成分,以及第三层(c)是树状沉积,其主要成分是不同于所述第一种金属的一种金属。
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