[发明专利]铜图形的电解-化学联合腐蚀方法无效
| 申请号： | 92110057.4 | 申请日： | 1992-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1072464A | 公开（公告）日： | 1993-05-26 |
| 发明（设计）人： | 袁绥华;疏小舟;章锡元 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C25F3/14;C23F1/02 |
| 代理公司： | 西安交通大学专利事务所 | 代理人： | 田文英 |
| 地址： | 710049*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种联合应用电解和化学腐蚀以蚀刻铜图形的方法。将经过涂光刻胶、曝光、显影、坚膜等处理的铜工件作为阳极，以与工件具有相似形状的铜材作阴极，在酸性硫酸铜电解液中对工件进行图形电解蚀刻。在短时间内可刻去绝大部分应刻去的铜材。然后用浓硫酸、三氧化铬的水稀释液对工件进行化学腐蚀，在很短时间内刻去应刻去的残余铜材。本发明使铜图形的蚀刻速度较快，较易控制，侧向腐蚀小，成本降低，便于应用。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 电解 化学 联合 腐蚀 方法 | ||
【主权项】：
1、铜图形的电解--化学联合腐蚀方法，其特征在于：首先将经过光刻工艺中的曝光显影和坚膜后的工件作为本蚀刻方法中所使用的工件；其次以工件作阳极，与工件具有相似形状的铜材作阴极，将阳极和阴极均置于酸性硫酸铜电解液中，对工件上的图形进行电解蚀刻，刻去为了制作图形应完全刻除的铜材料中的绝大部分；第三，用浓硫酸和CrO3混合物的水稀释液在室温下对已经电解蚀刻的工件进行化学蚀刻。
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