[发明专利]全元素离子束材料表面改性方法

摘要

本发明涉及全元素离子束材料表面改性方法，该方法是在离子溅射源通入氩气，从靶材上溅射下的原子沉积在工件表面，同时离子注入源引出气体离子、金属、碳、硅或硼单一离子束或者同时引出气体和金属离子束注入到工件表面，制备硬质膜、合金膜和功能膜层。本方法可以完成全元素离子束增强沉积、气体离子注入、金属离子注入和复合离子注入。该方法可广泛应用于宇航、石油化工、机械工程的电子工程。

主权项

1.全元素离子束材料表面改性方法，是在由真空室(1)、水冷工件台(2)、工件(3)、全元素离子束注入源(4)、离子溅射源(5)、原子溅射靶(6)等组成的设备中完成的，其特征在于：将清洗的工件(3)放在真空室(1)内的可转动水冷工件台(2)上，真空抽至10-4～10-3Pa，离子溅射源(5)通入氩气，形成氩离子束，射到原子束溅射靶(6)上，从靶材上溅射下原子，沉积在工件(3)表面上；与此同时，由离子注入源(4)引出气体离子束、金属、碳、硅或硼单一离子束，或者同时引出气体和金属离子束注入到工件表面，形成各种功能膜和多层复合膜。