[发明专利]基片传送装置

摘要

基片传送装置，该真空处理设置具有若干工作站、一个加热装置和若干基片支架，基片支架可以是板式的、扁平的和平行六面体的，且可在垂直状态下沿预定的传送路径通过工作站。在真空室内给实心的下端部（6）装上保持和导引装置，并给该下端部（６）装上用金银丝工艺制成的（ｆｉｌｉｇｒａｎ）平面框架结构的上端部（７），待加工的基片（２３、２３′…）借助于一个基片支架（１４、１５）悬挂在该框架上，并且基片支架（１４、１５）可活动地保持在框架上，当加热产生长度改变时，基片支架（１４、１５）可相对框架运动。

主权项

1.用于将基片(23、23’)送入并使其通过真空处理设备若干工作站的传送装置，该真空处理设备具有一个加热装置(25)和若干大致为板形的、扁平平行六面体的基片支架，基片支架可在垂直位置下沿预定的传送路径通过工作站，其特征在于一个具有保持和导引基片(23、23’)装置的可移动的下端部(6)，这些保持和导引装置具有两个与导轨(28)和立式正推轴承(29)共同作用的轮组(30、30，…，31、31’，…)，并具有一个由下端部(6)保持的、用金银丝工艺制成的平面框架结构的上端部(7)，所述上端部(7)由垂直支撑(8、8’及9、9’)和水平支撑(10、11)构成，待加工的基片(23、23’，…)借助于一个基片支架(14、15)保持在框架上；至少一个连接点可在垂直支撑(8、8’及9、9’)和水平支撑(10、11)之间形成相向移动，这样，就有可能通过加热而在基片支架(14、15)和框架(5、5’)之间形成相对运动—例如长度的变动；并且所述加热装置垂直地从上而下伸入互相对置的基片之间的空间内。