[发明专利]将毒扁豆碱用于皮肤的经皮治疗系统及其制造方法无效
申请号: | 93112909.5 | 申请日: | 1993-11-11 |
公开(公告)号: | CN1088457A | 公开(公告)日: | 1994-06-29 |
发明(设计)人: | L·杜勒;T·希利;T·普罗菲里希;F·施坦尼斯劳斯;K·沃尔特 | 申请(专利权)人: | LTS洛曼医疗系统公司;克林格制药股份有限公司 |
主分类号: | A61L15/44 | 分类号: | A61L15/44;A61M37/00;C09J7/02;C09J11/06;C09J133/04;A61K31/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 将毒扁豆碱用于皮肤的一种经皮治疗系统,由活性物质不可透过的底层,含有40—90%重量的聚合物和0.1—20%重量的毒扁豆碱基剂或其一种适于药用的盐的压敏贮液器层,以及覆盖于贮液器层的可拆卸的保护层组成。其贮液器层由基于丙烯酸酯或异丁烯酸酯的聚合物质和0.1—40%重量的HLB值为1.1—12.0的含有羟基基团的软化剂组成。 | ||
搜索关键词: | 毒扁豆碱 用于 皮肤 治疗 系统 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、将毒扁豆碱用于皮肤的经皮治疗系统,由活性物质不可渗透的底层,含有40-90%重量的聚合物和0.1-20%重量的毒扁豆碱基剂或者其适于药用的盐的压敏贮液器层,以及覆盖于贮液器层上可拆卸的保护层组成,其特征在于,贮液器层含有聚合物质,该聚合物质基于丙烯酸酯和/或异丁烯酸酯和0.1-40%重量的HLB值为1.1-12.0的含有羟基基团的软化剂。
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