[发明专利]微小型结构及其制造方法无效
| 申请号： | 93116450.8 | 申请日： | 1993-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1077300C | 公开（公告）日： | 2002-01-02 |
| 发明（设计）人： | 范龙身;汉斯·赫尔姆特·扎普 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 冯谱 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制造集成化独立式微小型结构的方法，选定一种衬底材料；在衬底材料表面上演积一层保护材料；将保护层刻成图案以规定一种形状；在保护层上淀积一层光敏抗蚀材料；用反差增强光刻法，将光敏抗蚀层刻成图案，以形成一个光敏抗蚀型模；在光敏抗蚀型模上，电镀上一层金属层材料，所述光敏抗蚀层被制成图案，以提供具有至少9∶1的纵横比的独立金属结构；以及应用蚀刻剂来溶去光敏抗蚀型模和保护层，以形成一个独立式的金属结构。$#! | ||
| 搜索关键词： | 微小 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造集成化独立式微小型结构的方法，其特征在于有以下步骤：选定一种衬底材料；在衬底材料表面上淀积一层保护材料；将保护层刻成图案以规定一种形状；在保护层上淀积一层光敏抗蚀材料；用反差增强光刻法，将光敏抗蚀层刻成图案，以形成一个光敏抗蚀型模；在光敏抗蚀型模上，电镀上一层金属层材料，所述光敏抗蚀层被制成图案，以提供具有至少9∶1的纵横比的独立金属结构；以及应用蚀刻剂来溶去光敏抗蚀型模和保护层，以形成一个独立式的金属结构。
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