[发明专利]一种轴密封装置无效

专利信息
申请号: 93116478.8 申请日: 1993-08-25
公开(公告)号: CN1045330C 公开(公告)日: 1999-09-29
发明(设计)人: 有坪博文;布施敏彦 申请(专利权)人: 日本皮拉工业株式会社
主分类号: F16J15/16 分类号: F16J15/16;F16J15/54
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种轴密封装置,其是由沿轴向配置的两组机械密封构成,以便由在两机械密封之间形成的清洗流体区把密封流体区和大气区隔开并密封,在旋转轴上安装并固定有第一密封环,并在壳体上安装着压向第一密封环的第二密封环。在密封流体区一侧的第一密封由接触式密封构成。大气区一侧的第二密封由非接触式密封构成。在清洗流体区中注入低于被密封流体压力的清洗气体。
搜索关键词: 一种 密封 装置
【主权项】:
1.一种轴密封装置,用于在一个密封壳体(15)和一个旋转轴(16)之间进行密封,该旋转轴(16)可绕一纵向上的轴线旋转并穿过所述密封壳体(15)伸入一密封流体区(A)和一大气区(B),其特征在于,所述轴密封装置包括在密封流体区(A)一侧的第一机械密封(11)和在大气区(B)的第二机械密封(21),该二机械密封的位置在旋转轴(16)的轴线方向上相互分隔开,从而靠在第一机械密封(11)和第二机械密封(21)之间形成的清洗流体区(C)将密封流体区(A)和大气区(B)隔离和密封,机械密封(11,21)的每一个都包括一个第一密封环(12,22)和一个第二密封环(13,23),第二密封环(13,23)可在旋转轴(16)的轴线方向上滑动,其中:第一机械密封(11)是一个接触式密封,位于密封流体区(A)和清洗流体区(C)之间,从而面对第二密封环(13)后端面的空间与密封流体区(A)连通,第二机械密封(21)是一个非接触式密封,带有一个形成在密封环(22)密封端面上的产生动压力的沟槽(22a),该密封(21)位于清洗流体区(C)和大气区(B)之间,从而面对第二密封环(23)后端面的空间与清洗流体区(C)连通,以及在清洗流体区(C)注入压力低于密封流体区(A)流体压力的无活性气体的清洗流体(G)。
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