[发明专利]结晶评价装置及结晶评价方法无效
| 申请号： | 93121614.1 | 申请日： | 1993-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1076474C | 公开（公告）日： | 2001-12-19 |
| 发明（设计）人： | 藤井真治;布施玄秀;井上森雄 | 申请（专利权）人： | 松下电气产业株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N33/00;G01N15/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 汪瑜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 结晶的评价装置和观察方法。装置特征是具有含阳极和阴极的容器、向容器提供阳极氧化膜形成水溶液和阳极氧化膜去除水溶液的机构以及在容器内有微型扫描探头的扫描式探头显微镜。观察方法至少有半导体衬底阳极氧化形成氧化膜、氟酸／氟化氨混合液去膜和原子力显微镜观察该衬底等过程。几乎无物理影响，去膜选择性高，能观察原子级缺陷形状，测定衬底表面杂质浓度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 结晶 评价 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种结晶评价装置，其特征在于，包含：设置有阳极和阴极的容器部；向上述容器部内供给形成阳极氧化膜的水溶液的机构；向上述容器部内供给去除上述阳极氧化膜的水溶液的机构；以及在上述容器部内具有扫描微型探头的扫描式微型探头显微镜。
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