[发明专利]具有富碳涂层的底物无效

专利信息
申请号: 94103934.X 申请日: 1994-04-09
公开(公告)号: CN1110425A 公开(公告)日: 1995-10-18
发明(设计)人: G·A·科勒;R·W·杜斯特;D·P·思图博 申请(专利权)人: 明尼苏达州采矿制造公司
主分类号: G11B5/64 分类号: G11B5/64
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 孙爱
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种磁性记录介质,它包括聚合物挠性底物和涂在该底物上的磁性层,该磁性层上附着了一层无粘接材料的富碳涂层,富碳涂层等离子体沉积到一种底物上的方法,已知a.将底物置于真空室中;b.通过将适宜提供富碳涂层的等离子体气体注入到细长空心阴极中在真空室中产生富碳等离子体;提供足够的电压以产生和维持等离子体;和在真空室中为等离子体维持足够的真空;和c.在射频偏压电极作用磁性介质的同时,将底物暴露到等离子体中以使等离子体朝着底物加速并在底物上沉积富碳涂层。
搜索关键词: 具有 涂层
【主权项】:
1、一种在底物上等离子体沉积富碳涂层的方法,它包括下列步骤:a.将底物置于真空室中;b.借下列步骤在该真空室中产生富碳等离子体;(i)向空心阴极中注入适于提供富碳涂层的等离子体;(ii)提供足够的电压以在该空心阴极产生并维持富碳等离子;(iii)在所这真空中为所述等离子体维持足够的真空;c.将所述底物暴露在所述等离子体中,同时将所述底物紧靠射频偏压设备,借此所述等离子体朝着所述底物加速并作为富碳涂层沉积在该底物上。
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