[发明专利]纳米级超微传感器及其制作方法无效

专利信息
申请号: 94104755.5 申请日: 1994-04-29
公开(公告)号: CN1040043C 公开(公告)日: 1998-09-30
发明(设计)人: 张学记;周性尧;张悟铭 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G01N27/30 分类号: G01N27/30
代理公司: 武汉大学专利事务所 代理人: 余鼎章
地址: 43007*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种纳米级超微传感器及其制作方法。本发明采用了离子束刻蚀技术,制得的电极尺寸的最小直径可达30nm。和已有的制备技术相比,用本法制备的纳米电极具有尺寸可控。由于采用离子束将电极表面的原子一个个打掉,电极的表面干净、光滑,具有分子级的平整度;电极机械强度高,可用于单个细胞内的测试。提出用电聚合绝缘化方法,制得了纳米级盘电极。电极的电化学性能优良。提出在真空情况下封合支撑体与电极材料的方法,避免了电极的污染。首次在纳米电极上进行化学修饰,制备成功了纳米级超微pH传感器。
搜索关键词: 纳米 级超微 传感器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种纳米级超微传感器,其特征在于:它包括如下部分:(a)纳米级超微柱电极,(b)纳米级超微盘电极,(c)经表面修饰成为纳米级超微传感器。
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