[发明专利]电沉积铜箔及用一种电解液制造该铜箔的方法无效
申请号: | 94105576.0 | 申请日: | 1994-05-27 |
公开(公告)号: | CN1046557C | 公开(公告)日: | 1999-11-17 |
发明(设计)人: | R·杜安·阿珀桑;西德尼·J·克劳塞;理查德·D·帕特里克 | 申请(专利权)人: | 古尔德电子有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 马浩 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种电沉积铜箔,该铜箔具有约4至约10微米的无光泽侧面生箔Rtm、在23℃测得的约3868至约5626kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在23℃测得的约6%至约25%的延伸率、在180℃测得的约2110kg/cm2至约2813kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在180℃测得的约4%至约15%的延伸率、以及小于-20%的热稳定性。制造上述铜箔的方法,该方法包括(A)制备电解液;(B)使该电解液流过两电极之间;(C)从阴极取下铜箔。 | ||
搜索关键词: | 沉积 铜箔 一种 电解液 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电沉积铜箔,具有4至10微米的无光泽侧面生箔Rtm、在23℃下测得的3868至5626kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在23℃下测得的6%至25%的延伸率、在180℃下测得的2110kg/cm2至2813kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在180℃下测得的4%至15%的延伸率、以及小于-20%的热稳定性。
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