[发明专利]电沉积铜箔及用一种电解液制造该铜箔的方法无效

专利信息
申请号: 94105576.0 申请日: 1994-05-27
公开(公告)号: CN1046557C 公开(公告)日: 1999-11-17
发明(设计)人: R·杜安·阿珀桑;西德尼·J·克劳塞;理查德·D·帕特里克 申请(专利权)人: 古尔德电子有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 马浩
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种电沉积铜箔,该铜箔具有约4至约10微米的无光泽侧面生箔Rtm、在23℃测得的约3868至约5626kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在23℃测得的约6%至约25%的延伸率、在180℃测得的约2110kg/cm2至约2813kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在180℃测得的约4%至约15%的延伸率、以及小于-20%的热稳定性。制造上述铜箔的方法,该方法包括(A)制备电解液;(B)使该电解液流过两电极之间;(C)从阴极取下铜箔。
搜索关键词: 沉积 铜箔 一种 电解液 制造 方法
【主权项】:
1.一种电沉积铜箔,具有4至10微米的无光泽侧面生箔Rtm、在23℃下测得的3868至5626kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在23℃下测得的6%至25%的延伸率、在180℃下测得的2110kg/cm2至2813kg/cm2范围内的极限抗拉强度、在180℃下测得的4%至15%的延伸率、以及小于-20%的热稳定性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于古尔德电子有限公司,未经古尔德电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/94105576.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top