[发明专利]电子元器件防静电损伤的抗静电膜制备工艺无效
| 申请号： | 94106140.X | 申请日： | 1994-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1099546A | 公开（公告）日： | 1995-03-01 |
| 发明（设计）人： | 刘庆祥 | 申请（专利权）人： | 电子工业部第十三研究所 |
| 主分类号： | H05F1/02 | 分类号： | H05F1/02;C09K3/16;H05K9/00 |
| 代理公司： | 石家庄市专利事务所 | 代理人： | 田文其 |
| 地址： | 050051*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种电子元器件防静电损伤的抗静电膜制备工艺，它包括抗静电膜材料的制备和在电子元器件上涂布、固化等工序，制备的导电型抗静电膜能将电子元器件静电敏感通道的两极短路；而制备的绝缘型抗静电膜的作用是隔绝静电保护电子元器件免遭外界静电的损伤，该电子元器件防静电之措施不仅抗静电膜的制备工艺简单、易掌握，而且抗静电膜的去除还容易、绝缘型抗电膜还具有不影响焊接之优点。 | ||
| 搜索关键词： | 电子元器件 静电 损伤 抗静电 制备 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种电子元器件防静电损伤的抗静电膜制备工艺，其特征在于：它包括抗静电膜材料的制备和在电子元器件上涂布、固化等工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子工业部第十三研究所，未经电子工业部第十三研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/94106140.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：紧固到圆柱形物体上的托架
- 下一篇：汉字简易编码输入法
