[发明专利]控制准直溅射源的方法无效
| 申请号： | 94116126.9 | 申请日： | 1994-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN1104262A | 公开（公告）日： | 1995-06-28 |
| 发明（设计）人： | 热里M·阿克特;斯蒂芬M·赫加;小万斯E·霍夫曼;帕特里克O·米勒;帕梅拉R·帕特森 | 申请（专利权）人： | 凡利安同仁股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 竹民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种自动控制准直溅射源的方法，它包括为计算机提供带有公式的软件，以便计算作为准直器寿命之函数的乘数，用溅射源依次在一系列衬底上沉积薄膜，监测准直器的寿命，并利用软件周期性地调节作为乘数之函数的可控溅射参数值，从而对准直器上被溅射材料的积聚进行补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 溅射 方法 | ||
【主权项】：
1、一种自动控制溅射源的方法，所述溅射源带有准直器，并可借助计算机进行控制，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(a)为所述计算机提供软件，它包括用来计算乘数的公式，所述乘数为准直器寿命的函数；(b)使用溅射源通过所述准直器在一系列衬底上顺次沉积由来自溅射靶材料组成的薄膜；(c)监测准直器的寿命；(d)在步骤(6)期间利用所述软件这样来自动地、周期性调节作为所述乘数的函数的可控溅射参数值，使得当被溅射材料积聚在准直器上时，由该源在所述系列上沉积的薄膜性能基本上不会在衬底与衬底之间发生变化。
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