[发明专利]双轴取向叠层聚酯薄膜无效
| 申请号： | 94116872.7 | 申请日： | 1994-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1083768C | 公开（公告）日： | 2002-05-01 |
| 发明（设计）人： | 冈崎岩;三宅彻;阿部晃一;大岛桂典 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/20 | 分类号： | B32B27/20;B32B27/36;G11B5/73 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双轴取向叠合聚酯薄膜，它具有至少两层的叠层结构。至少薄膜最外层之一是厚度不大于3μm的薄叠合层A。在层A中，存在着内部形成的颗粒和特定的聚集颗粒或单分散性颗粒，或者存在少量的单分散性颗粒。当该聚酯薄膜用作磁性记录介质的基膜时，在高速下薄膜表面的耐磨性大大增加。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 聚酯 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种至少有两层叠层结构的双轴取向叠层聚酯薄膜，其特征在于所述薄膜的至少一个最外层是叠层厚度不小于0.01μm并且不大于3μm的薄叠合层A，至少所述的薄叠合层A含有内部形成的颗粒，并且所述的薄叠合层A含有平均聚集度为5至100、含量不小于0.01％重量不大于2％重量的聚集颗粒，所说聚集颗粒的每一个是由平均初始颗粒直径为5至200nm的颗粒形成。
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