[发明专利]将成像器件中干涉条纹减至最小的层成像叠片无效
| 申请号： | 94191609.X | 申请日： | 1994-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN1120370A | 公开（公告）日： | 1996-04-10 |
| 发明（设计）人： | B·迪桑那亚卡 | 申请（专利权）人： | 明尼苏达矿产制造公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G01T1/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马铁良,萧掬昌 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种将成像器件中的干涉条纹减至最小的分层成像叠片。一聚合物层(34)带有一个平坦表面和一个与之相对的第二表面；第二表面的粗糙度RA在0.5μm至2.5μm范围内。在该粗糙表面上提供一其折射系数n2与聚合物层折射系数n1不同的粘合剂层(36)。RA(单位为μm)与n2-n1的绝对值Δn的乘积是在约0.01至0.05的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 器件 干涉 条纹 减至 最小 | ||
【主权项】：
1.一种将成像器件中的干涉条纹减至最小的分层成像叠片(30)，包括：其折射系数为n1的聚合物层(34)，它带有基本为平面的第一主表面，以及与之相对的表面粗糙度为RA的第二主表面；和提供在该聚合物层的第二表面上的聚合涂层(36)，该涂层折射系数为n2，厚度小于50μm，其中RA与Δn为n2-n1的绝对值，RA的单位μm。
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