[实用新型]用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构无效
申请号: | 94205131.9 | 申请日: | 1994-03-25 |
公开(公告)号: | CN2183373Y | 公开(公告)日: | 1994-11-23 |
发明(设计)人: | 阎明朗;赖武彦;尹林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 中国科学院专利事务所 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构,其特征在于还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦,一个步进马达⑦由一台微机控制,一个步进马达⑦与上档板①转轴真空动态密封连接;另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接,基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上;下档板②转轴为空心,转轴穿过基片装载转盘③的轴,它们之间动态真空密封。 | ||
搜索关键词: | 用于 溅射 设备 中的 多基片 多功能 机构 | ||
【主权项】:
1、一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构,其特征在于:还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦,二个步进马达)⑦由一台微机控制,一个步进马达)⑦与上档板①转轴真空动态密封连接;另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接,基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上;下档板②转轴为空心,转它穿过基片装载转盘③的轴,它们之间动态真空密封。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/94205131.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类