[实用新型]用于溅射设备中的多基片、多功能载片机构无效

专利信息
申请号: 94205131.9 申请日: 1994-03-25
公开(公告)号: CN2183373Y 公开(公告)日: 1994-11-23
发明(设计)人: 阎明朗;赖武彦;尹林 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 中国科学院专利事务所 代理人: 高存秀
地址: 100080*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构,其特征在于还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦,一个步进马达⑦由一台微机控制,一个步进马达⑦与上档板①转轴真空动态密封连接;另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接,基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上;下档板②转轴为空心,转轴穿过基片装载转盘③的轴,它们之间动态真空密封。
搜索关键词: 用于 溅射 设备 中的 多基片 多功能 机构
【主权项】:
1、一种由档板①、基片装载转盘③组成的多基片、多功能载片机构,其特征在于:还包括下档板②、档板上、下位置调整装置④、定位销⑤、定位刻度指示⑥、二个步进马达⑦,二个步进马达)⑦由一台微机控制,一个步进马达)⑦与上档板①转轴真空动态密封连接;另一台步进马达⑦与基片装载转盘③的轴齿轮齿带连接,基片装载转盘③的转轴通过动密封装在真空的法兰盘上;下档板②转轴为空心,转它穿过基片装载转盘③的轴,它们之间动态真空密封。
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