[发明专利]柱形靶电弧汽相淀积装置及方法无效

专利信息
申请号: 95105971.8 申请日: 1995-06-06
公开(公告)号: CN1137572A 公开(公告)日: 1996-12-11
发明(设计)人: 王殿儒;刘维一;遇衍澄;魏耀存;王琰;李燕;冯宇奇 申请(专利权)人: 北京长城钛金技术联合开发公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京理工大学专利事务所 代理人: 付雷杰
地址: 100080 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是电磁控制柱形靶的电弧汽相淀积装置及方法,是属于真空镀膜,多弧离子镀膜领域,其技术特征在于是用电磁线圈控制弧班运动的柱形靶的电弧汽相淀积装置,电磁线圈贯穿整个靶长,并通以直流或交变电流,使线圈整体在靶面上产生运动的电磁场,通过对线圈磁场的控制来达到对弧班的控制,使柱靶表面刻蚀均匀,靶材利用率高,镀膜厚度均匀,成膜速率高,可用于仿金装饰镀、工具镀等多种镀膜工艺。
搜索关键词: 柱形靶 电弧 汽相淀积 装置 方法
【主权项】:
1.一种柱形靶电弧汽相淀积装置,包括阳极壳体、阴极柱形靶及引弧丝,其特征在于阳极壳体中部所装的阴极柱形靶内固装有电磁线圈,电磁线圈贯穿整个靶长,并通以直流或交变电流,线圈前后分别装有前挡板与后挡板,前挡板和后挡板与阴极柱形靶壁之间设有间隙,电磁线圈内设有冷却入水管,阴极柱形靶顶部装冷却出水管,电磁线圈外围与阴极柱形靶壁之间为出水腔,电磁线圈外面涂有防水层。
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