[发明专利]为微型机械装置提供牺牲分隔层的方法无效
| 申请号： | 95107256.0 | 申请日： | 1995-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1099614C | 公开（公告）日： | 2003-01-22 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·Ｃ·贝克;斯科特·Ｈ·普伦格 | 申请（专利权）人： | 德克萨斯仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 胡晓萍 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一制作微型机械装置的方法，其采用从一基底高起的支承件支承可运动件。首先，制作有反射性顶面的支承件。然后在支承件上沉积一层光刻胶，使其厚度基本上覆盖反射性顶面。将光刻胶层曝光，产生出在支承件之上的曝光强的区域和在各支承件之间的曝光弱的区域。这样使得可对后续的显影工序进行控制，使在各支承件之间的光刻胶材料被除去一些之后的高度与支承件的反射性顶面在同一平面内，同时保证将支承件之上的光刻胶材料除去。 | ||
| 搜索关键词： | 微型 机械 装置 提供 牺牲 隔层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作具有由支承元件可运动地支承着的可运动元件的微型机械装置的方法，所述支承元件从一基底向上高起并有一与基底隔开的自由端，所述方法包括下列工序：使支承元件的自由端成为对辐射能有反射性的；在基底上沉积一层光刻胶，使其初始厚度足以覆盖支承元件的自由端；将所述光刻胶层的自由表面对着辐射能进行泛光曝光，不用掩蔽膜；对光刻胶进行显影，以产生一连续的起支承元件作用的表面，该表面包含支承元件的自由端和残留的、减薄了的光刻胶层的自由表面；从沉积在起支承元件作用的表面上的材料制作可运动元件；以及除去残余的光刻胶。
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