[发明专利]一种低温镀复金刚石薄膜的方法及设备无效
| 申请号： | 95111077.2 | 申请日： | 1995-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN1138635A | 公开（公告）日： | 1996-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王志超 | 申请（专利权）人： | 南京大学;南京大学天地金钢石镀膜技术开发中心 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26 |
| 代理公司： | 南京大学专利事务所 | 代理人： | 黄嘉栋 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种镀复金刚石薄膜的方法和设备，它是应用高频等离子体化学汽相沉积法以一氧化碳和氮气为气源，在衬底表面镀覆金刚石薄膜。用本发明的方法可以在室温至500℃温度下镀覆金刚石薄膜，因而在塑料、钢、铁等衬底表面都能镀覆金刚石薄膜。本发明的镀覆设备价廉易行，可适用于不同大小和形状的工件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 金刚石 薄膜 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种镀复金刚石薄膜的方法，其特征是以一氧化碳和氮混合气体为气源，应用高频等离子体化学汽相沉积法在衬底表面镀复金刚石薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
