[发明专利]从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法无效

专利信息
申请号: 95111863.3 申请日: 1995-07-12
公开(公告)号: CN1041115C 公开(公告)日: 1998-12-09
发明(设计)人: 张静筠;高桂芬;王淑彬 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: C22B3/24 分类号: C22B3/24;//C22B59∶00
代理公司: 中国科学院长春专利事务所 代理人: 宋天平
地址: 130022 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法,属于物质的分离和纯制技术,采用金属Zn还原度柱与P507萃淋树脂硅球吸附,淋洗柱串联进行,还原柱中的Zn粒床以1∶3的HCl处理30秒后,洗至中性,然后使20mg/ml浓度的GdCl3溶液通过Zn还原柱还原其中的Eu3+为Eu2+后进入树脂柱吸附和用HCl淋洗,反复操作一次得到高纯且Eu3+几乎被除尽的Gd氧化物。本发明得到的Eu3+含量几乎为零的Gd氧化物,为Gd的光谱研究和应用创造了物质基础。
搜索关键词: 高纯 氧化 除去 方法
【主权项】:
1.一种从高纯氧化钆中除去氧化铕的方法,采用上下串联的Zn还原柱和2-乙基己基膦酸单2-乙基已基酯(P507)萃淋树脂硅球柱,盐酸淋洗操作,本发明的特征在于采用下述步骤进行:a、将还原柱中的Zn粒床以4摩尔浓度的HCl溶液处理30秒钟,然后水洗至中性;b、将调整好pH≤1.5的20mg/ml浓度的GdCl3原料液通过还原柱进行还原;然后进入树脂柱进行吸附;c、将树脂柱恒温在50℃,用0.25摩尔浓度的HCl淋洗除Eu2+,至监测值;d、再用0.5摩尔浓度的HCl淋洗Gd,根据洗出液中稀土的浓度,收集纯GdCl3;e、将收集到的纯GdCl3液制成Gd2O3再按上述a-d操作重复进行还原,淋洗一次;f、草酸盐沉淀e的收集液,灼烧得到Gd2O3成品。
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