[发明专利]电子元件的清洗方法及装置无效
| 申请号： | 95118294.3 | 申请日： | 1995-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1059878C | 公开（公告）日： | 2000-12-27 |
| 发明（设计）人： | 青木秀充;中森雅治;山中弘次;今冈孝之;二木高志;山下幸福 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社;奥加诺株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/461 | 分类号： | C02F1/461;C25B9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了电子元件的清洗方法，其特征是将用清洗液处理的半导体基板、玻璃基板、电子元件及上述这些的制造装置的部件等被清洗物，再用去离子水电解水的阳极水或阴极水进行洗涤处理。 | ||
| 搜索关键词： | 电子元件 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、电子元件的清洗方法，所述的电子元件包括半导体基板、玻璃基板、电子元件及上述这些的制造装置的部件，所述的方法包括：用清洗液清洗所述的电子元件的清洗步骤；用包含有阳极室、阴极室和中间室的三槽式电解装置电解去离子水或超纯水，得到去离子水电解水的电解步骤；以及用所述的去离子水电解水洗涤所述的经清洗的电子元件的洗涤步骤，所述的去离子水电解水用作洗涤水，其中，所述的中间室被固体电解质的离子交换膜与所述的阳极室和阴极室分隔开，并且所述的中间室被固体电解质所填充。
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