[发明专利]电照相成像方法无效
| 申请号： | 95119107.1 | 申请日： | 1995-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1081346C | 公开（公告）日： | 2002-03-20 |
| 发明（设计）人： | 会田修一;吉原淑之;久木元力;吉田聪;杷野祥史;西尾由纪 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G13/04 | 分类号： | G03G13/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杨国旭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种电照相成像方法，包括一个调色剂影像转印步骤，从而取消了清除转印剩余调色剂的专用步骤。该方法不仅不会引起重影，还具有良好的灰度层次和点重现性。在本方法中，感光部件在一定的曝光强度下进行曝光，该曝光强度至少是最小曝光强度并低于最大曝光强度。$#! | ||
| 搜索关键词： | 照相 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成像方法，包括：对一个电照相感光部件进行充电的充电步骤；对充电后的感光部件进行曝光，在其上形成一个静电潜像的曝光步骤；用调色剂对该静电潜像进行显影，形成一个调色剂影像的显影步骤，以及将调色剂影像转印到转印材料上的转印步骤，在转印之后在显影步骤中，将经过转印步骤之后留在感光部件上的剩余调色剂进行回收；其特征在于在曝光步骤中，在一定的曝光强度下对感光部件进行曝光，该曝光强度至少是最小曝光强度(Emin)，并低于最大曝光强度；该最小曝光强度(Emin)是根据感光部件的表面电位-曝光强度特性曲线确定的，连结一个已知暗电势Vd的点和一个已知(Vd+剩余电位Vr)/2值的点而确定第一直线斜率S1，确定斜率为S1/20的切线与表面电位-曝光强度特性曲线之间的相交点，将该相交点的曝光强度确定为最小曝光强度(Emin)；上述最大曝光强度(Emax)确定为半衰减曝光强度(E1/2)的五倍；半衰减曝光强度(E1/2)至多为0.5cJ/m2，以及曝光强度范围宽度(Emax-Emin)在半衰减曝光强度(E1/2)的0.8-1.7倍范围，即(Emax-Emin)/(E1/2)＝0.8-1.7。
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