[发明专利]负型光致抗蚀剂及形成光致抗蚀图的方法无效
| 申请号： | 95119744.4 | 申请日： | 1995-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN1131754A | 公开（公告）日： | 1996-09-25 |
| 发明（设计）人： | 岸村真治 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 其溶剂中溶有碱溶性主体树脂、交联剂及酸发生剂的一种负型光致抗蚀剂。其中在溶剂中溶有根据碱溶性主体树脂为100％(重量)计算的10-50％(重量)交联剂及0.5-20％(重量)酸发生剂。 | ||
| 搜索关键词： | 负型光致抗蚀剂 形成 光致抗蚀图 方法 | ||
【主权项】：
1.其溶剂中溶有碱溶性主体树脂、交联剂及酸发生剂的一种负型光致抗蚀剂，其中在溶剂中溶有根据碱溶性主体树脂为100％(重量)计算的10-50％(重量)交联剂及0.5-20％(重量)酸发生剂。
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