[发明专利]匹配式多源频谱治疗仪

摘要

本发明涉及一种匹配式多源频谱治疗仪，由可调支架、电源控制盒、接线板、五个发射源体、反射板和保护罩构成，发射源体横向放置，各发射源体成纵向排列，其两端固定在接线板上；发射源体加热片上的半阻挡层铝粉涂层、中远红外涂料的合理配比、发射源体在接线板上的合理配置及其工作温度的合理选择确定了匹配式多源频谱治疗仪具有发射频带宽、发射峰值波长接近人体吸收峰值波长即和人体吸收相匹配以及保健、治疗疾病效率高的功能和特点。

主权项

1、一种匹配式多源频谱治疗仪，由可调支架(1)、电源控制盒(2)、接线板(3)、A发射源体(4)、B发射源体(5)、C发射源体(6)、D发射源体(7)、E发射源体(8)、反射板(9)和保护罩(10)构成，其特征在于：a、发射源体加热片(13)为五块外形几何尺寸相同、电阻值不同的直热式碳化硅含量为(60～70)％的扁长方体陶瓷片，其背面为平面，正面为弧形柱面；b、发射源体加热片(13)的背面、两侧及正面纵向中心线的一侧即50％的弧形柱面均涂有铝粉涂层(12)；c、发射源体上的中远红外涂料(11)的配比及范围(重量百分比)：A发射源体(4)：三氧化二铝15～25二氧化硅25～35三氧化二铁45～55B发射源体(5)：二氧化钛30～40二氧化锆15～25氧化锌15～25三氧化二铁20～30C发射源体(6)：二氧化锆15～25二氧化硅15～25三氧化二镍15～25三氧化二铁0～5三氧化二铬0～5二氧化锰15～20氧化铜10～20D发射源体(7)：三氧化二铬60～70二氧化硅15～20二氧化钛15～20E发射源体(8)：二氧化钛25～35氧化锌25～35三氧化二铝5～15二氧化硅15～25二氧化锆5～15d、发射源体的工作温度范围：A发射源体(4)：90℃～120℃B发射源体(5)：130℃～140℃C发射源体(6)：150℃～170℃D发射源体(7)：130℃～160℃E发射源体(8)：140℃～160℃e、发射源体的安装配置：每个发射源体横向放置，各发射源体成纵向排列，其两端固定在接线板(3)上，A发射源体(4)、B发射源体(5)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在下，D发射源体(7)、E发射源体(8)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在上，C发射源体(6)未涂铝粉涂层(12)的弧形柱面在上或下。